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[设施设备] COP器具清洗机如何达到0.2um颗粒小于20个/ml

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药徒
发表于 2023-2-27 11:00:33 | 显示全部楼层 |阅读模式

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半导体行业,问了国内2大客户都说买的这个机器烘干达不到0.2um颗粒<20个/ml。
但是洗的话,都没问题。
有没有办法呀?
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药士
发表于 2023-2-27 11:09:29 | 显示全部楼层
要达到这个结果,是不是所用的清洗水的质量更为重要?
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药生
发表于 2023-2-27 11:47:23 | 显示全部楼层
密闭后送洁净空气置换
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药仙
发表于 2023-2-27 11:49:24 | 显示全部楼层
本帖最后由 木木杨1 于 2023-2-27 11:53 编辑

0.2um颗粒<20个/ml确实是非常严格的要求,根据中国药典2020《0903 不溶性微粒检查法》,即使是注射剂的不溶性微粒要求都远高于楼主的要求,这可能是半导体行业的特点。

对于楼主的疑问,可能很难在这里找到答案。

因为对于制药行业,H14高效过滤器已经基本满足要求,但是对于半导体行业,可能需要使用ULPA(Ultra Low Penetration Air)超高效空气过滤器,ULPA过滤器的过滤效率更高,可以达到99.9995%以上,常用于更为苛刻的洁净室和生产环境中,例如制造集成电路和飞行器航天器等高科技领域。


点评

木老师禁止搜索  详情 回复 发表于 2023-2-27 12:26
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药徒
发表于 2023-2-27 12:21:49 | 显示全部楼层
超高效过滤器
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药生
发表于 2023-2-27 12:26:31 | 显示全部楼层
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