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[申报注册] 什么情况下杂质和原研一致?

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发表于 2021-8-18 14:53:24 | 显示全部楼层 |阅读模式

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最近在做一个原料药的药学研究。由于原研制剂的API不易获得,所以对原研制剂进行解析。按照CDE发布的(化学药品新注册分类申报资料要求(试行)2016年80号)要求,国内4类仿制原料药的杂质应和原研品的一致。我对这个一致有点迷茫。我这样理解的 1. 对于原研品和仿制原料药共有的杂质: 如果原研品中的杂质高于鉴定限度,那么仿制原料药中对应杂质不得大于原研品,如果原研品中的杂质低于鉴定限度,那么仿制原料药中对应杂质可以大于原研品,但是不得超过鉴定限度。2. 对于仿制原料药中特有的杂质: 杂质的水平应符合ICHQ3A的要求。我想寻找关于仿制原料药的杂质应和原研品的一致这个评判标准。大家有没有啊,有的话谢谢分享一下。
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大师
发表于 2021-8-18 19:03:28 | 显示全部楼层
仿制药与原研一致不是完全的标准一致,一般从三方面考虑:

1、参考该产品欧州药典、美国药典、日本药典等标准要求等

2、新发布的警示结构等

3、理论分析可能存在的杂质:因为有些原研开发的较早,研究的并不透彻,这个需要增加
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 楼主| 发表于 2021-8-22 16:42:42 来自手机 | 显示全部楼层
那现在CDE还要求原料药的仿制与原研品的一致吗?M4里是没提到与原研的一致。是不是按M4的就可以了?
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